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ㆍ첨부#1 ed81aceab8b0ebb380ed9998_ec82b0ec868cebb684ec959511.jpg (69KB) (Down:3)
ㆍ 형태: 튜브
사용온도: 1300도
사용히타: SiC
산소분압 제어용 튜브로


  
산소분압을 제어하기 위해 지르코니아 산소셀과 MFC를 연동하고 PC프로그램으로 통제하여 
필요한 산소분압이 만들어 지도록 하는 장비 CVD, 반도체 실험용 장비
 
아래글 3존 튜브로

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